全自动磁控溅射镀膜系统

1 、溅射真空室:真空室为圆筒形前开门结构，尺寸Ф450mmx400mm，全不锈钢结构。可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；手动前开门结构；靶安装在下盖板，基片转台在上法兰；

2 、磁控溅射系统:永磁靶（其中一个可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；气动控制挡板组件，各靶可独立/顺次/共同工作； 500W直流电源1台； 500W全自动调谐射频电源2台， -200V直流偏压电源1台

3 、旋转转基片台 :基片通过进口加热丝加热方式，加热温度：室温—800°C，由热电偶闭环反馈控制，可控可调；基片自转由调速电机驱动，0—20转/分连续可调，样品挡板组件 1套