等离子增强化学气相沉积炉（PECVD系统）

一、产品应用

   PECVD工艺中由于等离子体中高速运行的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成离子体，而等离子体化学活性很强，很容易反应，在基片上沉积出所期望的薄膜；具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点；

二、产品特点

   1、整机采用SUS304不锈钢材质，流线型外观，真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好。

   2、炉子底部装有一对滑轨，移动平稳，可以手动从一端滑向另一端，实现快速的加热和冷却。炉盖可开启，可以实时观察加热的物料。

   3、采用高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小。

   4、采用SUS304不锈钢快速法兰，通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空，一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷。

   5、加热元件采用康奈尔发热丝，表面负荷高、经久耐用。设计温度1200℃，升温速率10℃/min。

   6、可选配多路质量流量计，数字显示、气体流量自动控制；内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀，可通过控制面板上的旋钮来调节气体流量。

   7、等离子射频电源：大射频功率达500W，输出频率13.56MHz±0.005%，输入电源 208-240VAC, 单相50/60Hz。

三、技术参数