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德国制造高剪切纳米胶体磨设备厂家

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  • 型号 CM2000
  • 品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 上海

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更新时间:2017-12-28 09:40:44浏览次数:1351

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产品简介

产地 进口 产品大小 中型
产品新旧 全新 分类 实验用胶体磨
结构类型 立式 应用领域 机械
自动化程度 全自动    
德国制造高剪切纳米胶体磨设备厂家,纳米胶体磨,上海纳米胶体磨,德国纳米胶体磨,实验室纳米胶体磨此款胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好。

详细介绍

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纳米胶体磨 超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

         

根据一些行业的特殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000超高速胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

  

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超高速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

  

CMS2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

      

三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

 

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