多潘立酮混悬剂胶体磨，混悬液胶体磨，口服混悬液胶体磨，外用混悬液胶体磨，注射混悬液胶体磨，阿苯达唑混悬液胶体磨，安达铝镁加混悬液胶体磨，布地奈德混悬液胶体磨，布洛芬混悬液胶体磨，蒙脱石混悬液胶体磨，磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨

多潘立酮混悬液，也叫吗丁啉，为白色混悬液，味甜，用于消化不良、腹胀、嗳气、呕吐、腹部胀痛。对于混悬液药剂的制备国家有严格的规定：药物本身的化学性质应稳定，在使用或贮存期间含量应符合要求；混悬剂中微粒大小根据用途不同而有不同要求；粒子的沉降速度应很慢、沉降后不应有结块现象，轻摇后应迅速均匀分散；混悬剂应有一定的粘度要求。

多潘立酮混悬剂胶体磨介绍：混悬液中的微粒大小是不均匀的，大的微粒总是迅速沉降，细小微粒沉降速度很慢，细小微粒由于布朗运动，可长时间悬浮在介质中，使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国内的设备之后，放弃了具有极度价格优势的国内设备，来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海思峻高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)混悬液胶体磨GM2000三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。

   
GM2000采用了三级错齿磨头定转子，磨头定转子间隙在0.2-0.7之间，间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙，在转速不变的情况下，间隙越小，速胶体磨研磨、分散效果会越好。顾名思义，高速胶体磨有着非比寻常的转速，思峻工程师们通过改变皮带轮的传动比例，使原本只有3000rpm的电机，经过传动后设备转速可以高达9000rpm。实践证明，在磨头定转子间隙不变的情况下，转速越高，高速研磨机研磨、分散效果越好。

如果客户想要使物料达到更好的效果，我们提供丹弗斯变频器供客户选择，高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm，是国内设备转速的4-5倍，可谓是极速。混悬液胶体磨GM2000结构机理：由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用优质不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是向外延伸一级，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分：硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理，增强刀齿的硬度，起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、*、处理量大、均质细化效果好。

思峻与国内胶体磨相比：

（1）转速和剪切速率：

思峻胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转

F=23/0.7X1000=32857S-1

F=40/0.7/X1000=57142S-1

国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍。

（2）胶体磨头和间距：

思峻胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，GM胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块，间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工。

国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差。

（3）机械密封：

思峻胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转。

国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁。

（4）清洗：

思峻胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有GIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计*，立式结构符合流体原理，清洗更简便。

国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，通常情况，需要拆卸机器进行清洗。