| 注册| 产品展厅| 收藏该商铺

行业产品

021-80205654
当前位置:
珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司>>资料下载>>NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析

产品展示

更多

NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析

阅读:249        发布时间:2020-5-21
分享:
  • 提供商

    珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司

  • 资料大小

    1.2MB

  • 资料图片

  • 下载次数

    0次

  • 资料类型

    PDF 文件

  • 浏览次数

    249次

点击免费下载该资料
  使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰,而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高,所以为了分析低浓度的Si,必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 )。
 
  本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的佳条件。

会员登录

×

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

登录 后再收藏

提示

您的留言已提交成功!我们将在第一时间回复您~

对比框

产品对比 二维码 意见反馈 在线交流
在线留言