6月27-29日，半导体行业盛会SEMICON China 2020在上海新博览中心举行，较大的分析仪器制造商之一珀金埃尔默，携全面的半导体行业解决方案，以及新的无机元素分析利器，业界化学高分辨多重四极杆ICP-MS NexION® 5000精彩亮相。现场来往的专业观众不少都被这台具有超前性能优势的新产品吸引驻足，与我们的技术人员交流了解。
 

　　NexION® 5000精彩亮相
 

　　在展会期间，珀金埃尔默应用市场高级产品经理受邀与27日下午的新技术发布会上发表主题演讲《珀金埃尔默化学高分辨多重四极杆ICP-MS助力半导体工业无机元素检测》。半导体行业是电子信息产业的基础，更好的芯片一直是行业的核心追求之一。在指甲盖大小的芯片上可能集合了近万米金属线和几千万甚至上亿根晶体管，这犹如在一粒沙上建造一座城市，对集成电路芯片生产工艺提出了很高的要求。在半导体器件制造过程中，对痕量元素杂质的控制会直接影响半导体产品的良品率。这要求对半导体制程中的晶圆、超纯水、化学试剂、光刻胶、电子特气等进行严格的无机元素检测。目前，根据新的制程要求，SEMI(半导体设备和材料协会)Grade 5 标准，半导体用超纯水本底要求为小于1ppt水平，所有超纯化学品中关键无机元素离子小于10ppt，更有半导体生产企业依据其制程工艺，提出需达到5ppt甚至更低的水平。
 

　　珀金埃尔默为满足严苛的痕量元素、超痕量元素检测而开发的NexION 5000，具有业内*的四组四极杆设计，结合碰撞反应池技术，可提供超低的背景等效浓度、优异的检出能力和基体耐受性，可实现高准确度和高可重现性的分析结果。其四组四极杆质谱平台和四路碰撞反应气，可以依据不同的应用需求，简单、灵活地进行选择，在性能上较现有的高分辨HR-ICP-MS、传统三重四极杆和单四极杆ICP-MS均有质的提升，可满足半导体行业越来越严苛的工艺质控要求。
 

　　在报告之后，这位高级产品经理还受到了媒体的关注，并接受了中国集成电路和半导体行业观察的采访，请他介绍珀金埃尔默在半导体行业检测中的布局及其分析检测技术如何助力半导体行业发展。

 

　　优良仪器 助您检测
 

　　珀金埃尔默可提供傅里叶变换红外光谱仪、红外显微镜、紫外可见近红外分光光度计、差示扫描量热仪、热机械分析仪等产品，用于测定固化率、固化热、热膨胀系数、透光率、反射率、微观污染物、成分浓度等，为客户提供全面的解决方案。化学分析与检测对集成电路生产非常重要，它们为确保芯片生产质量，改善良品率，提供敏锐的“眼睛”。前不久，业界就发生过因光刻胶中相关金属离子不达标从而引起几亿美金损失的惨痛教训。珀金埃尔默在半导体行业的检测方案囊括了无机元素与纳米颗粒检测、AMC及VOCs等有机物检测以及IC封装中材料检测等方面，能有效地为企业规避上述风险。

 

　　如同我司高级产品经理于采访中所言：
 

　　“我们期待与用户一同，引进和开发更多有针对性的应用方案，用更好的技术和可靠的仪器为客户带来实实在在的帮助，助力中国半导体行业的发展”。