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光解除臭设备技术参数

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更新时间:2019-01-11 09:51:57浏览次数:463

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产品简介

产地 国产 产品新旧 全新
光解除臭设备技术参数 利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,达到脱臭及杀灭细菌的目的。

详细介绍

UV光氧催化废气净化器利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射,裂解废气,通过特定波长的UV激发光源产生不同能量的光量子;使有机或无机高分子废气化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,在大量携能光量子的轰击下使废气物质分子解离和激发,降解转变成低分子化合物,如CO2,H2O等。利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,达到脱臭及杀灭细菌的目的。

  利用高臭氧分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧,使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物。如CO2、H2O等。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。  
  利用特制的催化剂进行氧化还原反应;运用高能UV紫外线光束、臭氧及催化剂对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,*达到脱臭及杀灭细菌的目的。

  利用特制的高能UV紫外线光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体如:氨、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子键。光解除臭设备技术参数光解除臭设备技术参数

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