TESCAN超高分辨场发射扫描电镜 电子显微镜

TESCAN超高分辨场发射扫描电镜

主要特点：

TriglavTM——新开发的超高分辨电子光学镜筒并配备TriLensTM物镜及*的探测系统

超高分辨率物镜（60度浸没式物镜），全新的用于高分辨率分析工作的无漏磁分析物镜，重新设计用于超大视场观察的中间镜。

*的电子束无交叉模式与超高分辨率物镜相结合，获得了的成像性能

传统的TESCAN大视野光路设计提供各种工作和显示模式

全新的EquiPower™技术进一步提高电子束的稳定性

新的肖特基场发射电子枪能使电子束流高达400nA并能实现电子束能量的快速改变

通过扩展样品室和支架能达到12”晶圆的SEM观察

TriBETM技术具有三个BSE探测器，可以选择不同角度的信号进行采集。位于镜筒内部的Mid-Ange BSE和In-Beam LE-BSE探测器，用于检测中等角度及轴向的高角背散射电子，而样品室的BSE探测器用于探测大角度范围的背散射电子。并且这三个探测器能探测到低于200eV的低能背散射信号，综合在一起，他们可以提供各种不同衬度的图像

TriSETM技术具有三个SE探测器，对所有工作模式下采集二次电子信号都进行了优化。位于镜筒内部的In-Beam SE探测器能在短工作距离下采集二次电子。用于电子束减速模式下的SE(BDM)探测器用于超高分辨成像。In-Chamber SE探测器能提供形貌衬度

电子束减速技术(BDT)能在低至50eV的低电压下，也仍具有出色的分辨率（选配）

TESCAN超高分辨场发射扫描电镜电子束实时追踪技术可对电子束实现实时优化

扩展的低真空模式样品室气压能达到500Pa，可用于不导电样品的成像

超高分辨率 0.7@15keV，1.0nm@1keV

浸没式物镜系统和无交叉电子束模式结合在一起，可在低能量下实现超高分辨成像。浸没式物镜能在样品周围产生强磁场，显著降低了像差。而无交叉电子束模式则降低了Boersch效应，对电子束进行进一步的优化，终达到1.0nm @1keV的超高分辨率。