SIGMA 300场发射扫描电子显微镜

SIGMA 300场发射扫描电子显微镜

世界光学品牌，可见光及电子光学的----德国蔡司公司始创于1846年。其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)，积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验。

CARL ZEISS以其前瞻性**的设计融合欧洲*制造工艺造就了该品牌在光电子领域无可撼动的地位。自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有电镜制造核心*的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、是为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到*广大用户的信赖与认可。

SIGMA 300场发射扫描电子显微镜【核心技术】

蔡司公司推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，将低电压成像技术发挥到了，采用适宜的探针电流范围，降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间，提高效率。

【技术参数】

分辨率：1.0nm@30kV STEM

1.0nm @15 kV

1.8nm @1kV

放大倍数：10-1,000,000×

加速电压：调整范围：0.02-30 kV(无需减速模式实现)

探针电流： 3pA～20nA(100nA选配) 稳定性优于 0.2%/h

低真空范围： 2-133Pa (Sigma 300VP可用)

样品室： 365 mm(φ)，275mm(h)

样品台：5轴优中心全自动

X=125mm

Y=125 mm

Z=50 mm

T=-10º-90º

R=360º 连续

系统控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系统，可选鼠标、键盘、控制面板控制

存储分辨率：32k x 24k pixels

【产品应用】

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分 析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶 粒取向测量。