小型高真空二合一镀膜仪

等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件，不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。为了提高镀膜质量，本台二合一镀膜仪采用的不锈钢真空腔体配合精密分子泵的高真空设计，较高的真空度能够有效的提升镀膜纯净度和均匀度，有利于得到更好的实验效果。样品台有旋转和加热功能，能够提高薄膜的附着力和成膜的均匀度。本仪器体积小，节省空间，能够置于试验台上使用，非常适合各大高校及研究机构选用。

小型高真空二合一镀膜仪适用范围：

扫描电镜样品表面喷金、蒸金喷碳等操作，以及非导体材料试验电极的制作等。

小型高真空二合一镀膜仪技术参数：

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