详细介绍
CY-MS500S-2TA1S双靶磁控及蒸发复合镀膜仪可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM(扫描电镜)的样品制备。
设备主要由不锈钢真空腔体、磁控溅射靶,蒸发镀膜装置,放置样品的样品台,真空泵机组、真空测量规管,进气系统和控制系统组成。
设计特色
1. 设备主机采用触摸显示屏操作,温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。
2. 真空室采用下置靶设计,样品台具有加热和旋转但是功能,可以使镀膜效果更加均匀。
3. 设备真空获得系统采用两级真空泵组,前级泵为大抽速机械泵,有效缩从常压至低真空的时间,主泵为涡轮分子泵,抽速高,真空获取速度更快。 整体真空获得系统干净快速。
4. 真空腔体采用304不锈钢制成,配有观察窗口及挡板。造型美观做工精细,真空性能优异。
5. 主要密封法兰采用 CF系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封,真空性能优良,能有效保证镀膜质量。
技术参数
磁控溅射头 | 数量 | 2英寸 x2 | 冷却方式 | 水冷 |
蒸发系统 | 蒸发源 | 钨丝篮 | *高温度 | 1500℃ |
热电偶 | S型热电偶 |
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真空腔体 | 腔体尺寸 | φ300mm X 300mm | 观察窗口 | φ100mm |
腔体材料 | 304不锈钢 | 开启方式 | 前开门式 | |
真空系统 | 机械泵 | 旋片泵 | 抽气接口 | KF16 |
抽气速率 | 1.1L/s |
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分子泵 | 涡轮分子泵 | 抽气接口 | CF150 | |
抽气速率 | 600L/s | 排气接口 | KF40 | |
真空测量 | 电阻规+电离规 |
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极限真空 | 1.3x10-4Pa | 供电电源 | AC;220V 50/60Hz | |
电源配置 | 直流电源数量 | 1台 | 输出功率 | ≤1000W |
输出电压 | ≤600W | 响应时间 | <5ms | |
射频电源数量 | 1台 | 输出功率 | ≤1000W | |
功率稳定度 | ≤5W |
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射频功率 | 13.56MHz | 射频稳定度 | ±0.005% | |
膜厚监控系统 | 膜厚仪测量分辨率 | ±0.03Hz | 测量精度 | ±0.5% |
测量上限 | 50000 | 测量速度 | 100~1000ms | |
水冷系统 | 水箱容积 | 9L | 流量 | 10L/min |
供气系统 | 流量计类型 | 质量流量计 | 量程 | 200sccm |
气体类型 | Ar气 |
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其他 | 供电电压 | AC220V,50Hz | 整机尺寸 | 1400x750x1300mm |
整机功率 | 4kw(主机+真空泵) | 整机重量 | 295kg |
样品台
样式一:尺寸150mm,加热温度≤500℃ 控温精度±1℃, 旋转速度1-20r/min
样式二:尺寸φ150mm,高度 上下70mm精准可调,旋转速度1~20rpm,加热温度 0~500℃