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低温恒温循环器 我有新说法
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低温恒温循环器常应用于对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。

简介

提供-40℃~105℃温度范围内的高、低恒温液体,以满足用高、低温做反应的恒温仪器的需要。

特别适用与化学反应釜、发酵罐、旋转蒸发器、电子显微镜、阿贝折先仪、蒸发皿、生物制药反应器等实验设备配套使用。

*的内循环和外循环泵系统,内循环使仪器温度均匀恒定,外循环泵输出16升/分~18升/分在流量高、低温液体。8升~40升的工作槽容积内还可放入装有生化试剂或被测样品的各种容器,直接进行高低温试验或测试,实现一机多用

主要特点

●风冷式高效全封闭制冷压缩机,降温速度快。

●微机智能控制,温度精确温度。

●数显分辨率0.1℃或0.01℃,具有温度测量值偏差修正功能。

●温度超温保护,自动切断电源并报警。

●制冷系统过热、过流自动保护。

技术参数

型号

温度范围

(℃)

数显分辨率

(℃)

温度波动度

(℃)

槽容积(L)

循环泵流量

(L/min)

外型尺寸

(mm)

HX-08

0~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-010

0~105

0.01

±0.05

10

18

320×370×770

HX-015

0~105

0.01

±0.05

15

16

320×370×770

HX-020

0~105

0.01

±0.05

20

16

400×450×980

HX-030

0~105

0.01

±0.05

30

16

440×550×1000

HX-0508

-5~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-0510

-5~105

0.01

±0.05

10

18

320×370×770

HX-0515

-5~105

0.01

±0.05

15

16

320×370×770

HX-0520

-5~105

0.01

±0.05

20

16

400×450×980

HX-0530

-5~105

0.01

±0.05

30

16

440×550×1000

HX-1008

-10~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-1010

-10~105

0.01

±0.05

10

18

320×370×770

HX-1015

-10~105

0.01

±0.05

15

16

320×370×770

HX-1020

-10~105

0.01

±0.05

20

16

400×450×980

HX-1030

-10~105

0.01

±0.05

30

16

440×550×1000

HX-1508

-15~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-2008

-20~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-2010

-20~105

0.01

±0.05

10

18

320×370×770

HX-2015

-20~105

0.01

±0.05

15

16

320×370×770

HX-2020

-20~105

0.01

±0.05

20

16

400×450×980

HX-2030

-20~105

0.01

±0.05

30

16

440×550×1000

HX-3008

-30~105

0.01

±0.1

8

16

320×370×770

HX-3010

-30~105

0.01

±0.1

10

18

320×370×770

HX-3015

-30~105

0.01

±0.1

15

16

320×370×670

HX-4008

-40~105

0.1

±0.1

8

16

400×450×850

HX-4015

-40~106

0.1

±0.1

15

16

400×450×980

参考资料

参考资料编辑区域


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