半导体工业超纯水特点详情介绍

　　半导体工业超纯水

　　超纯水设备是用在反渗透等水处理工艺之后，用来制取超纯水的水处理设备。设备将阴、阳离子按照比例混合装填于同一容器内，使其处理后的水质电导率可低于1uS/cm以下，出水电阻率达到10MΩ.cm以上，根据不同行业的用水要求，可将出水电阻率可控制在1-18MΩ.cm之间。

　　半导体工业超纯水特点

　　超纯水传统的制备工艺通常是采用离子交换树脂进行制取，但采用离子交换树脂通常需要经常性的进行树脂再生，即耗费物力又浪费人工，我们公司经过多年实践，同时结合新的膜分离技术，采用反渗透加离子交换系统(或EDI)相结合研发的各行业用超纯水设备，运行可靠。与新工艺相比具有造价低，系统稳定等优点。

　　半导体工业超纯水应用范围

　　·化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程

　　·超纯材料和超纯化学试剂

　　·实验室和中试车间

　　·电子半导体、集成电路板上用到的化工材料

　　·石英、硅材料生产、加工、提纯

　　·高纯墨水、打印机中的喷墨、纳米墨水

　　莱特莱德公司售后服务介绍

　　1.根据客户需要帮助指导客户选择适合的产品。

　　2.设计制造产品，安排发货。

　　3.安装师到现场指导安装，调试、试运行。

　　4.培训操作人员，了解设备具体怎么操作。

　　5.售后部门全天为您服务。

　　以上内容为产品简介，设备运行稳定，可*再生。机械损耗小，不需要考虑设备使用时间短的问题，为企业节约成本。如果您想了解更多有关设备的详细信息，可以关注莱特莱德或留言给小编。