型号：TH-300
氢气发生器结构：
同系列产品技术参数：
| 型号 | 流量 | 仪器特点 |
| DH-300 | 0-300ml/min | 全自动控制，不存储氢气，有水位、超压的安全装置，纯度99.99999% |
| DH-500 | 0-500ml/min | |
| TH-300 | 0-300ml/min | 采用的离子膜制氢技术，无需加碱，直接电解纯水（去离子水、二次蒸馏水），优点：不污染色谱的任何部件。纯度：优于99.999%，压力：0-0.4MPa |
| TH-500 | 0-500ml/min | |
| TH-1000 | 0-1000ml/min | |
| SPH-200 | 0-200ml/min | 体积小，重量轻，单过滤，压力0.3MPa，自动防返碱，纯度99.999% |
| SPH-300A | 0-300ml/min | 单不锈钢过滤器，压力0.4MPa，自动防返碱，纯度99.999% |
| SPH-300 | 0-300ml/min | 两不锈钢过滤器，内有微量氧脱除剂（不需活化），纯度更高，压力0-0.4MPa，0-0.6MPa两档可调，自动防返碱，纯度99.999% |
| SPH-500A | 0-500ml/min | 单不锈钢过滤器，压力0.4MPa，自动防返碱，纯度99.999% |
| SPH-500 | 0-500ml/min | 两不锈钢过滤器，内有微量氧脱除剂（不需活化），纯度更高，压力0-0.4MPa，0-0.6MPa两挡可调，自动防返碱，纯度99.999% |
| GCD-1000 | 0-1000ml/min | 大流量，可同时带多台色谱，自动防返碱，纯度99.999% |
| GCD-3000 | 0-3000ml/min | 安全可靠，自动流量跟踪，用于中心实验室集中供氢，可用于石化、半导体等行业 |
| GCD-6000 | 0-6000ml/min | 安全可靠，自动流量跟踪，用于中心实验室集中供氢，可用于石化、半导体等行业 |
| GCD-9000 | 0-9000ml/min | 安全可靠，自动流量跟踪，用于中心实验室集中供氢，可用于石化、半导体等行业 |
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