主机技术参数：
电源 | 220~240 VAC 50/60Hz 9A |
微波源 | 2450MHz，PID控制0~1000W变频连续非脉冲调节 |
微波炉腔 | 316L不锈钢腔体，内外多层防腐PFA喷涂涂层 |
温度测控系统 | 高精度红外和铂电阻传感器，双通道温度检测DTD技术，自动切换控制。红外测温范围0~900℃，标配限定300℃，控温精度±0.1℃；铂电阻测温范围0~250℃，控温精度±0.1℃ |
压力测控系统 | 压电晶体传感器，控压范围0~5MPa（725psi），控制精度±0.01MPa |
紫外光源系统 | 可同时配置两套紫外光源。标配主波长365nm紫外光源，功率300W；选配主波长254nm紫外光源，功率100W |
超声波系统 | 浸入式超声波发射装置，功率0~800W可调，频率28kHz，自动扫频锁频 |
搅拌系统 | 数字恒速机械搅拌可双向旋转，旋转扭矩300N·m，转速30~1600r/min可调；同时配备磁力搅拌，转速0~800r/min可调 |
软件系统 | 7寸彩色液晶触摸屏搭载Windows系统，能够实时显示各项实验参数和变化曲线，通过电脑连接，可进行传输和存储，同时也可以通过电脑连接远程控制实验过程 |
视频系统 | 炉腔配备彩色影像摄录系统，7寸液晶屏可实时显示实验过程，并可通过电脑连接传输录制 |
排风系统 | 炉腔内置高速散热风机，风量3m3/min，3档变速 |
工作温度 | 常压反应容器工作温度不高于300℃，可拓展工作温度不高于900℃（特殊配置）；高压反应容器工作温度不高于230℃ |
工作压力 | 双动能恒压控制阀，反应容器工作压力恒定不高于2MPa（290psi）以内 |
通讯接口 | USB 接口 |
常压反应容器 | 标配50~1000mL高硼硅玻璃反应容器及冷凝、回流、加液附件、惰性保护气接口； 选配2000mL高硼硅玻璃反应容器，选配50~1000mL石英反应容器 |
高压反应容器 | 100mL，200mL和500mLTFM高压消解罐，宇航复合纤维外罐，高强度合金罐架 |
工作环境温度/湿度 | 0~40℃ / 15~80%RH |
整机尺寸/净重 | 500×625×580mm （宽×深×高），48kg |
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