科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪
型号：VTC-2DC2英寸
产品概述：
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜，它是一款物美价廉的实验手。
主要参数：
- 输入电源：220V AC 50Hz
- 输出电压：600 VDC
- 输出功率：zui大500W
- 整机功率：1000W（包括真空泵）
溅射腔体：
- 采用石英腔体，尺寸：166mm OD x 150mm ID x250mm H（配置直靶头）
- 尺寸：166mm OD x 150mm ID x290mm H（配置带角度倾斜靶头）
- 密封法兰:直径为165mm，采用金属制作，密封采用O形密封圈
溅射头&样品台：
- 溅射头安装靶材直径为2英寸，同时可选配1英寸溅射头
- 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台，其与溅射头之间距离可调
- 样品台可加热，加热温度RT-500℃（RT为室温）
- 安装有一可手动操作的挡板
- zui大可制膜的直径为:2英寸（标配2英寸，如果需要更大尺寸请与我们销售联系）
真空系统：
- 安装有KF25真空接口
- 数字真空压力表（Pa）
- 此系统运行需要Ar气，并且气瓶上安装有减压阀（设备中不包含）
- 采用机械泵< 3.8E-2 Torr(参考值，详情请点击）
- 采用涡旋分子泵< 3.8E-5 Torr(参考值，详情请点击）
- 可在本公司选购各种真空泵
进气：
- 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶
- 设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流
靶材：
- 靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度)
- 可在本公司选购各种靶材
薄膜测厚仪（可选）：可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
产品外形尺寸：
540mm L x540 mm W x1100mm H
净重：70 kg（不包括泵）
科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪
型号：VTC-2DC2英寸
质量认证：CE认证
- 使用提示：
有时为了达到理想的薄膜厚度，可能需要多次溅射镀膜 - 为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N）
- 在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
- 要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面
- 超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。
- 等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。
- 制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。
警告：
- 注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。
- 气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
- 溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶
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