合肥科晶 高真空磁控溅射头

合肥科晶 高真空磁控溅射头（ HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头）

产品概述：

HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

合肥科晶 高真空磁控溅射头

特点：

· 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作

· 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布

· 磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命

· 标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配

· 安装是采用标准真空接头，便于操作

· 更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度

配有一块铜靶

合肥科晶 HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头

溅射头：

· 溅射头的直径:46.3mm

· 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)

· 靶材的大厚度: 1/8" (3mm)

· 磁环:NdFeB稀土永磁铁

杆的直径:3/4" O.D.

所需功率：

• DC (大) 250 W
• RF（大）100 W

大阴极溅射电流：3A

阴极溅射电流：200-1,000 V

可选压力范围：~1 mTorr 至1 Torr

溅射厚度均匀性图：

· 注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：

· 功率：直流150W

· 真空环境：10mTorr(Ar)

靶材与基片的距离：75mm

水冷却：

· 所需水流量： 1/2 GPM

· 进水温度：<20 ℃

水管接头：0.25" O.D快插头

接头：

· 电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配

· 本公司会赠送一高真空快速接头

· 此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸

产品长度：14英寸（355.6mm)

产品重量：1.36kg

倾斜装置：

· 溅射头相对于杆大可倾斜+/- 45度

· 倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度

可选配件：

· 循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L

本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪

应用：

· 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：

· 薄膜涂覆

· 半导体器件

· 磁记录介质

· 超导薄膜

· 量子计算器件

· MEMS

· 生物传感器

· 纳米技术

· 超晶格

· 颗粒膜

· 记忆合金

· 组合薄膜沉积

光学薄膜