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一、LED概述:
LED、LCD显像管、液晶显示器、和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用超纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个显像管需用纯水80kg[1]。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。
二、LED光学EDI超纯水设备对水质的要求:
新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
三、LED光学EDI超纯水设备工艺大致分为以下几种:
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理→反渗透系统→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(工艺)
3、预处理→一级反渗透→PH调节→中间水箱→二级反渗透→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(工艺)
4、预处理→反渗透系统→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
四、LED光学EDI超纯水设备说明:
在设备设计上,采用成熟、可靠、*、自动化程度高的二级反渗透+EDI+混合床水处理工艺,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流*可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
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