电子束蒸发系统 UHV-PLD & E-beam Evaporation system

电子束蒸发UEB-5000
产品特点
不锈钢SS304标准，SS316是可选的
6个电子束坩埚
四个2.75“CF端口K-细胞
主泵抽速≥500升/秒
干后盾泵站（滚动泵+涡轮泵）
厚度的显示器分辨率优于1A和0.1A/秒
负载锁定3“晶圆处理系统
所有端口都是CF和铜垫片密封

标准规范
相应压力：≤5×10-8Torr（无烘烤）
≤5×10-10的托（后烘烤）
负载锁底真空：≤10-6乇
衬底支架：3英寸晶圆
基板温度：800℃
气体处理：4名非腐蚀性气体的质量流量控制
电源：6千瓦直流电子

产品选项
气体处理：腐蚀性气体
基板温度：氧气兼容，高达1200°C
样品处理：高达12英寸晶圆
RHEED：结构监测
溅射枪：其他沉积源
离子束辅助沉积和样品清洗