详细介绍
1 、溅射真空室:真空室为圆筒形前开门结构,尺寸Ф450mmx400mm,全不锈钢结构。可内烘烤到100~150℃,选用不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行电化学抛光钝化处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;手动前开门结构;靶安装在下盖板,基片转台在上法兰;
2 、磁控溅射系统:永磁靶(其中一个可溅射磁性材料),射频溅射与直流溅射兼容,靶内水冷;气动控制挡板组件,各靶可独立/顺次/共同工作; 500W直流电源1台; 500W全自动调谐射频电源2台, -200V直流偏压电源1台
3 、旋转转基片台 :基片通过进口加热丝加热方式,加热温度:室温—800°C,由热电偶闭环反馈控制,可控可调;基片自转由调速电机驱动,0—20转/分连续可调,样品挡板组件 1套