详细摘要： 特点： 采用具有高亮度和色度精度的光谱方法（衍射光栅）， 0.005cd / m 2的超低亮度到400,000cd / m 2的高亮度都可测量， 对应CIE推荐...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2024-10-15 在线留言干燥设备 粉碎设备 混合设备 反应设备 过滤分离设备 过滤材料 灭菌设备 萃取设备 贮存设备 传热设备 锅炉 塔设备 结晶设备 其它制药设备
大塚电子（苏州）有限公司
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详细摘要： 特点： 采用具有高亮度和色度精度的光谱方法（衍射光栅）， 0.005cd / m 2的超低亮度到400,000cd / m 2的高亮度都可测量， 对应CIE推荐...
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详细摘要： 产品信息 特 点 采用了偏光光学系和多通道分光检出器 有可对应各种尺寸的装置，从1mm大小的光学素子到第10代的大型基板 安全对策和粒子对策，可对应液晶line...
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详细摘要： MINUK可评价nｍ级的透明的异物・缺陷，一次拍照即可瞬时获得深度方向的信息，可非破坏・非接触・非侵入的进行测量。且无需对焦，可在任意的面进行高速扫描,轻松决定...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2024-10-15 在线留言
详细摘要： 【ELSZneo使光散射的物性评价迈向新舞台】ELSZneo是ELSZ series的机型，除了在稀薄溶液~浓厚溶液中进行zeta电位（Zeta Potenti...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2024-10-14 在线留言
详细摘要： 本产品为粒径及zeta电位测量专用装置。ELSZneoSE选择了ELSZneo的新功能。 根据用途，可以根据需要定制任意数量的必要功能等...
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详细摘要： ● nanoSAQLA是一台通过动态光散乱法（DLS法）测量粒径（粒径0.6nm~10um）的装置。支持从稀薄到浓厚系广泛浓度范围内的多检体测定的新光学系统，实...
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详细摘要： 测量项目：[膜厚、折射率n、消光系数k]. 测量原理：[分光干涉法]. 测量对象：[光刻胶、SiO2、Si3N4等]. 测量范围：[1nm~92μm]....
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详细摘要： 产品信息 特点 可处理高达2400mm的直管光学总光通量测量 测量系统符合IESNA的LM-79和LM-80标准 采用新的探测器，可以进行广动态范围的测量 测量...
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详细摘要： ●可测量稀薄溶液~浓厚溶液的ZETA电位和粒径，并可进行分子量测量的检测装置。●适用于粒径测量范围（0.6nm~10um）,浓度范围（0.00001%~40%）...
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详细摘要： 产品信息 特 点 与产线的控制信号同步 通过光纤的自由的测试系统 实现最短2ms～的光谱测量（LE-5400） 同以往的产品相比，测量、演算、评价1个周期有可到...
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详细摘要： 产品信息 特 长 薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析 高性能的低价光学薄膜量测仪 藉由反射率光谱分析膜厚 完整继承FE-3000机种90%的强大功能 无...
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详细摘要： 产品信息 特点 nanoSAQLA 的特点 1个单元可轻松连续测量5个样品 实现了 在没有自动进样器的情况下难以 实现的 多个样品的 连续测量， 也可以通过改变...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2024-10-14 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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