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详细介绍
1200°C幵启式真空/气氛管式炉CVD系统（CVD-TF)
CVD-TF12P50/60/80/100 CVD-TF12T50/60/80/100 CVD-TF12P50/60/80/100S CVD-TF12T50/60/80/100S
提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导俥、纳米技艰、碳纤维等领域
■ 产 品 用 途 ：
此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀胶、陶瓷基片导电率測试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容{ MLCC } 气氛烧结等实验。
■ 产 品 特 点 ：
• 炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制成，温场均匀节能50%以上
• 的空气导流隔热技术保证箱内各部件的使用寿命及恒温效果
• 启动电炉，排温风机同时自动运行，试验结束后，排温风机将继续运行，直至炉体温度低于6013,排温风机自行停止，有效保护了炉体表面
• 炉门开启自动断电、超温保护功能、漏电保护功能，以确保使用的安全性
參电路采用连续加热输出方式，双回路供电，强弱电单独走线提高了系统的稳定性
• 加热模块采用直流信号调节输出功率，避免了感应电对控制倌号的干扰
• 操作按键选用低压金属按钮，自带状态指示灯，操作安全直观
• 上下炉体采用航空插头连接方式，连接安全可靠方便
• 气路总成采用贪品级316不锈钢制成，具有耐蚀性，耐大气腐蚀性和耐高湿强度好，无磁性
• 采用数显流呈显示仪.配合质至流呈控制器，采集数据并控制流呈。具有控制精度高，重复性好，相应速度快，稳定可靠等特点。
(气体质至流呈控制系统}
• 自动控制与手动控制切换功能，自动控制模式能通过设定值自动开启/关闭真空泵，使容器内保持在一定的真空压力范围内。手动控 制模式使用用户通过真空泵开启/关闭按钮直接操作真空泵。以满足不同实验的甭要。 {中真空控制系统）
• 电磁阀缓启动技术，使电磁阀在真空泵开启10秒钟后打开，使炉管内系统压力保持准确，也保证了废气不会返回到炉管系统影响实验效果（中真空控制系统）
实用新型证书号：ZL 2016 2 0955138.1
■S全 性 ：
< 过升报警、菜单锁定、过升防止、复电延时。
參采用单向阀技术，使气体流至在可控压力范围内控制，保证安全。
•采用混气罐装罝，使气体可以在充分混合后导入工作室内，确保不会泄露。
■技术参数:
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