NTRON Microx-223氧分析仪在监控半导体立式退火炉氧含量时，可以遵循以下步骤和要点：

1.安装与校准

安装位置：将Microx-223氧分析仪安装在半导体立式退火炉的气体出口或专门的取样点，确保传感器能够直接、准确地接触到炉内处理过程中的气体。

校准：在安装之前，对氧分析仪进行的校准，包括零点校准和量程校准。这可以确保测量结果的准确性和可靠性。

2.报警与监控阈值设置

设置报警阈值：在控制系统中，为Microx-223氧分析仪设置报警阈值。当氧含量超过或低于这些阈值时，系统应能够触发警报，以通知操作人员及时采取措施。

监控阈值：设置监控阈值以便操作人员和质量控制团队可以持续监控氧含量，并据此调整工艺参数或进行故障排除。

3.技术参数与应用特点

测量范围：Microx-223氧分析仪的测量范围为1ppm到25%的氧气含量，满足半导体工艺对氧含量监测的精度要求。

传感器技术：采用快速响应的LT氧化锆传感器，确保了对氧含量变化的快速准确感知。

环境适应性：专为严苛环境应用而开发，具有可靠的氧化锆传感器技术和快速响应的特性，使其能够在半导体立式退火炉等复杂环境中稳定运行。

4.维护与校准

定期维护：根据制造商的建议和半导体工艺的要求，定期对Microx-223氧分析仪进行维护和检查，确保其长期稳定运行。

校准频率：根据使用情况定期对氧分析仪进行校准，以保证测量结果的准确性。

产品特点 

● 测量范围：1ppm-25% O2

● 响应快（T90响应时间<10>

● 导轨式安装

● LCD 显示和 4 个多功能按钮

● 4-20mA 信号输出

● RS-232 通讯协议 （可选485通讯）

● 24VDC 供电

● 3 组继电器报警

● M18x1.5 螺纹过程接口（可选KF40法兰）