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阿苯达唑研磨分散机

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具体成交价以合同协议为准

产品型号CMSD2000

品       牌

厂商性质生产商

所  在  地上海市

联系方式:段勇查看联系方式

更新时间:2018-02-05 05:34:27浏览次数:6207次

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阿苯达唑研磨分散机,阿苯达唑研磨机,阿苯达唑均质机,阿苯达唑胶体磨是胶体磨 分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。

阿苯达唑研磨分散机,阿苯达唑研磨机,阿苯达唑均质机,阿苯达唑胶体磨是胶体磨 分散机组合而成的高科技产品。 

*级由具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。

阿苯达唑研研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

1  线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

阿苯达唑研

配制方法是1、将润湿剂与分散剂混合,加入份阿苯达唑,搅拌成糊状,2、将增稠剂加入润湿剂,搅拌均匀,3、将助悬剂及防腐剂溶解于水中,4、将⑴项加入至⑶项中,加入⑵项及剩余的纯化水既可。本发明*降低了药物的成本,同时降低了药物的毒性。该悬浮液工艺要点在于使用的胶体磨的研磨性能,普通胶体磨转速3000rpm,研磨出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,*限制了新型阿苯达唑混悬液的推广,上海依肯高剪切胶体磨CM2000系列转速高达9000rpm,是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。 经过CM2000胶体磨研磨后的混悬液固体颗粒粒径80%小于10UM,分布范围极窄。

   

IKN胶体磨与国内胶体磨的性能比较(阿苯达唑混悬液胶体磨,驱虫药液胶体磨,高剪切胶体磨):

选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


CMOD 2000/4

50

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMOD 2000/5

200

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMOD 2000/10

500

4,200

23

22

DN80/DN65

CMOD 2000/20

1500

2,850

23

37

DN80/DN65

CMDO 2000/30

3000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMOD2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水"的测定数据。

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