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原位X射线散射&透射反应装置

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更新时间:2023-08-18 12:45:04浏览次数:128

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产品简介

原位X射线散射&透射反应装置

详细介绍

简介

原位X射线散射&透射反应装置(DMHK-XS -200)是一款适用于液体环境的X射线散射原位测试(兼容透射模式XAFS)的原位装置,能够提供真实原位水热环境、搅拌环境,温度、搅拌速率以及中间液层厚度均可适当调节;反应釜光学窗口结构设计与出射张角可满足散射和透射测试需求;反应釜在底部集成了磁力搅拌,实现了反应釜内部温控、搅拌的一体化设计,并在应用软件中集成了温控和搅拌的显示及控制功能,充分满足液体环境X射线散射&透射原位测试需求。

主要特点

1. 该原位反应釜适用于液体环境的X射线散射原位测试(兼容透射模式XAFS),提供真实原位水热环境,温度及中间液层厚度均可适当调节;

2. 反应釜主体外形尺寸:约90*90* 145mmW*L*H,不含气路);腔体容积约:10mL;

3. 反应釜釜体材质:PEEK+PPL

4. 光学窗口:2个光学窗口(PEEK包裹金刚石膜,金刚石膜与液体接触),180°布置,窗口通光直径4mm,出射张角≦30°(满足散射测试需求),两侧窗口前端间距约0-2mm;

5. 长期工作温度:RT-200℃(设计温度可达300℃,但不可长时间使用,此温度下密封圈基本是一次性的),控温精度±1℃

6. 加热方式:通过加热套给釜体加热;加热速率:≤15℃/min;

7. 工作压力:0.1-5MPa ,顶部数字式压力表可监测釜腔压力,卸荷阀/泄压阀用于超压保护(卸荷阀/泄压阀开启/爆破压力6MPa;

8. 搅拌支持:腔体内可放置磁子,底部集成磁力搅拌,搅拌速率0-1200rpm

9. 水冷接口:预留水冷接口,可外接水冷机,管径Φ6mm

计算机控制及显示:USB/网络通讯接口;显示实时温度、搅拌速率,界面操作,控制加热温度、加热速率和搅拌速率。

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