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原位高低温XRD反应装置

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更新时间:2023-08-18 12:56:00浏览次数:205

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产品简介

原位高低温XRD反应装置

详细介绍

介:

原位高低温XRD反应装置(HLT-XRD-N)是一款专门为低温条件下利用实验室X射线衍射仪来探测样品物相结构变化而设计的原位装置。该原位装置可匹配商业衍射仪,可实现样品在低温下的物相反应监测。该装置主要包含有主体原位池、温控系统等多个部件及相关配件。采用液氮制冷对低温样品进行制冷,通过热传导的制冷方式,确保样品处于恒温点,温度范围为-180-300°该原位装置十分适用于不同材料在低温下的物相结构研究,是材料科学领域、能源化学领域等众多研究领域的有力辅助手段之一。

主要特点:

1. 原位高低温XRD 反应装置适用于低温环境下粉末样品的物相结构追踪、监测;

2. 该原位装置主要包括主体原位池(内置制冷组件)、液氮制冷系统、温控系统等多个部件及相关配件;

3. 该原位装置可适配各品牌商业X射线衍射仪的光路系统也可依据客户现有光路进行调整适配

4. 样品可为粉末样品,直接放置在冷台上;

5. X射线探测角度范围:5<2θ<160°;

6. 该装置采用液氮制冷对样品进行制冷,采用热传导的方式对样品进行加热,保证样品处的温度均匀;

7. 温度控制范围:-180-300°;控制精度:±1℃,采用程序控制;

8. 样品台采用铜加工而成,温度探测器为Pt100,置于冷台边;

装置窗口标配高分子球,能够承受不高于1 个大气压的气压条件和低真空环境;也可选择付费金属铍球,承受不同气压。

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