原位高低温漫反射装置

原位高低温漫反射装置（HLT-DR-N）是一款专门为低温条件下利用红外漫反射模式来探测样品结构变化而设计的原位装置。该原位装置匹配商业HARRICK漫反射光路，可实现光催化在低温下的反应监测。该装置主要包含有主体原位池、温控系统等多个部件及相关配件。采用液氮制冷对低温样品进行制冷，通过热传导的制冷方式，确保样品处于恒温点，温度范围为-150℃-400°该原位装置十分适用于不同材料在低温下的物相结构研究，是材料科学领域、能源化学领域等众多研究领域的有力辅助手段之一。

主要特点：

1. 原位高低温红外漫反射装置适用于低温环境下粉末样品的多相催化反应、表面反应以及光催化反应等的红外在线检测；

2. 该原位装置主要包括主体原位池（内置制冷组件）、液氮制冷系统、温控系统等多个部件及相关配件；

3. 该原位装置适配HARRICK漫反射光路系统，也可依据客户现有光路进行调整适配；

4. 样品可为粉末样品，直接放置在冷台上；

5. 该装置采用液氮制冷对样品进行制冷，采用热传导的方式对样品进行加热，保证样品处的温度均匀；

6. 温度控制范围：-150-400°；控制精度：±1℃，采用程序控制；

7. 样品台采用铜加工而成，温度探测器为Pt100，置于冷台边；

8. 装置采用蓝宝石窗口片，硒化锌作为可见光窗，能够承受不高于1 个大气压的气压条件和低真空环境。