超声波清洗超纯水设备

超纯水设备主要用途：

1、半导体行业：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗。

2、太阳能光伏行业：单晶硅、多晶硅切片清洗、太阳能电池、石英坩埚、多晶硅方舟、光伏玻璃、高纯硅粉。

3、LCD、LED、OLED生产清洗用水，光学摄像头清洗，光学材料清洗，导电玻璃清洗。

4、半导体集成电路板，线路板生产清洗用超纯水。

5、锂电池材料（磷酸铁锂、三元材料、锂电池隔膜）、蓄电池、锌锰电池生产用水。

6、电子级超纯化学试剂用纯水，纳米级电子陶瓷材料纯水、磁性材料用纯水、航空新材料生产用水。

7、有色金属、贵金属冶炼用水、航空新材料生产用水、电容器材料腐蚀化成工艺用水、真空镀膜、高纯墨水等。

超纯水设备设计参考标准：

电子工业纯水系统设计规范                                      GB50685-2011

中国国家电子级超纯水规格                                      GB/T11446.1-2013

电子级水测试方法通则                                             GB/T 11446.3-2013

电子级水电阻率的测试方法                                      GB/T11446.4-2013

电子级水中痕量金属的原子吸收分光光度测试方法    GB/T114465-2013

电子级水中痕量阴离子的离子色谱测试方法              GB/T11446.7-2013

电子级水中总有机碳的测试方法                               GB/T 11446.8-2013

电子级水中微粒的仪器测试方法                               GB/T 11446.9-2013

电子级水细菌总数的滤膜培养测试方法                     GB/T 11446.10-2013

※中纯环保品牌  『设计优势 』：

1、一对一专业服务，免费上门勘测场地，考虑放置区域与进场空间，免费检测原水水质。

2、了解客户全天需求水量、瞬时用水量、水质要求、了解客户生产工艺与行业特点。

3、专业团队配合设计、结合一对一服务人员的现场勘查、提供水处理解决方案一站式服务。

4、智能化设计，精准控制，自动化程度高，各单元可实现自动正洗/反洗/运行，联动保护，报警指示，4-20ma数据开放，可远传至DCS中控系统，真正实现无人值守。

5、按照工艺需求分段检测，可检测电导率、电阻率、PH、ORP、温度、流量、流速、压力等参数，确保每一个工艺环节的产品水都合格，而不污染后段成品水，重视过程控制。

6、综合投入成本与使用成本平衡考量的原则，设计适合客户的产品。

※中纯环保品牌  『生产优势 』：

1、核心部件全进口，同众多国际品牌美国DOW、海德能、GE、西门子、罗门哈斯、丹麦格兰富、罗斯蒙特、日本积水、施耐德等公司建立了良好的长期合作关系，产品质量得到可靠保障。

2、供应商进行产品考核，淘汰质量差、服务差的不合格供应商，优选录入合格供应商系统。

3、严格执行质量管理体系，品质为天，进行来料外观与性能检验--生产过程检验--整机质检。

4、生产人员对应编号生产，分组排班制作，责任制分工，建立绩效考核、可追溯强。

5、整机出货前的试运行检验，电气点动测试，确保将合格产品交到客户手中。

※中纯环保品牌  『售后优势 』：

1、专业的安装售后团队，进行一对一服务，加强了后期安装售后服务的时效性，提升满意度。

2、建立安装售后服务机制，进行绩效考核，设立客服部门，投诉窗口，及时解决客户诉求。

3、安装调试过程全程指导、全程培训，理论培训，实际操机培训，一般故障排查培训。

4、建立客户电子档案，每月进行电话回访，及时提供设备减低运转成本方法与建议；

5、多途径售后反馈，提供全国售后维保服务，快速响应，快速处理，24小时服务；

6、郑重承诺：整机免费质保二年，技术服务；

一、超纯水制取工艺推荐：

1、一级RO+EDI+抛混：产水电阻率≥18MΩ.CM（25℃），其余指标符合电子级超纯水规范

源水→源水箱→增压泵→砂滤器→炭滤器→软化器/阻垢剂→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱（建议氮气保护）→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水（建议管道循环、无死水）

注意：该工艺要求原水水质情况较好、否则会对EDI电除盐系统造成不可修复损伤

2、二级RO+EDI+抛混：产水电阻率≥18MΩ.CM（25℃），其余指标符合电子级超纯水规范

源水→源水箱→增压泵→砂滤器→炭滤器→软化器/阻垢剂→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→PH调节→高压泵→二级反渗透→二级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱（建议氮气保护）→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水（建议管道循环、无死水）

注意：如微粒子要求与TOC要求较高，建议后段设置脱除微粒子与TOC指标的专用超滤UF膜（日本旭化成）

3、盘滤+UF+二级RO+EDI+抛混：产水电阻率≥18MΩ.CM（25℃），其余指标符合电子级超纯水规范

源水→源水箱→增压泵→盘滤→袋滤→超滤UF→超滤水箱→中间泵→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→PH调节→高压泵→二级反渗透→二级水箱→增压泵→精滤器→EDI电除盐装置→超纯水箱（建议氮气保护）→输送泵→抛光混床→UV/TOC→精滤器→用水点→回水（建议管道循环、无死水）

注意：

1、如微粒子要求与TOC要求较高，建议后段设置脱除微粒子与TOC指标的专用超滤UF膜（日本旭化成）

2、以上工艺为全膜法工艺

3、一级RO+三级抛混：产水电阻率≥18MΩ.CM（25℃），其余指标符合电子级超纯水规范

源水→活性炭滤芯→10um滤芯→5um滤芯→高压泵→反渗透RO系统→一级抛光混床→二级抛光混床→三级抛光混床→精滤器→超纯水箱（建议氮气保护）→输送泵→UV/TOC→精滤器→用水点→回水（建议管道循环、无死水）

注意：适用于小型超纯水机组：流量范围：50L/H-200L/H

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二、EDI超纯水核心工艺介绍：

1、超滤UF系统

超滤系统主要的作用是分离悬浮物大分子胶体、黏泥、微生物、有机物等能够对反渗透膜造成污堵的杂质。包括反洗杀菌剂投加系统、超滤装置和反洗泵等。超滤（简称UF）是以压力为推动力，利用超滤膜不同孔径对液体进行分离的物理筛分过程。超滤膜多为不对称结构，由一层极薄（通常小于1μm）、具有一定尺寸孔径的表皮层和一层较厚（通常为125μm）、具有海绵状或指状结构的多孔层组成。前者起分离作用，后者起支撑作用。超滤膜的典型孔径在0.01～0.1微米之间，对于细菌和大多数病菌、胶体、淤泥等具有的去除率。膜的公称孔径越小，去除率越高。超滤膜通常使用的材料都是高分子聚合物。对于超滤而言，被广泛用来形象的分析超滤膜分离机理的说法是"筛分"理论。理想的超滤膜分离失筛分过程，即在压力作用下，原料液中的溶剂和小的溶质粒子从高压料液侧透过膜的低压侧，因为尺寸大于膜孔径的大分子及微粒被膜阻挡，料液逐渐被浓缩；溶液中的大分子、胶体、蛋白质、微粒等则被超滤膜截留而作为浓缩液被回收。然而，实际上超滤膜在分离过程中，膜的孔径大小和膜表面的化学性质等将分别起着不同的截留作用，因此，不能简单的分析超滤现象，超滤膜具有孔结构的重要特性，同时还具有膜表面的化学性质。超滤膜的性能指标有渗透通量和截留率。超滤膜的耐压性、耐清洗性、耐温性等性能对于工业应用时非常重要的。

膜组件结构有板式、卷式、管式和中空纤维四种，从分离层的位置划分为：内压、外压及内外压三种。中空纤维膜是超滤膜的最主要型式之一，呈毛细管状，经喷丝纺制而成。其内表面或外表面为致密层，或称活性层，内部为多孔支承体。致密层上密布微孔，溶液就是以其组份能否通过这微孔来达到分离的目的。原液在中空纤维膜内孔或外侧加压流动，被过滤液体则从另一侧流出。

2、反渗透RO系统

反渗透膜亦称逆渗透（RO）是1960 年美国加利福尼亚大学的洛布(Loeb)与素里拉简(Sourirtajan)发明的一项高新膜分离技术，其孔径小至纳米级（1 纳米=10-9米 ），在一定的压力下，H2O 分子可以通过 RO 膜，而源水中的无机盐、重金属离子、有机物、胶体、细菌、病毒等杂质无法透过 RO 膜，从而使可以透过的纯水和无法透过的浓缩水严格区分开来。

原理：渗透是一种物理现象，当两种含有不同浓度盐类的水，如用一张半渗透性的薄膜分开就会发现，含盐量少的一边的水分会透过膜渗到含盐浓度融和到均等为止。然而，要完成这一过程需要很长时间，这一过程也称为自然渗透。但如果在含盐量高的水侧，试加一个压力，其结果也可以使上述渗透停止，这时的压力称为渗透压力。如果压力在加大，可以使水向相反方向渗透，而盐分剩下。因此，反渗透除盐原理，就是在有盐分的水中（如原水），施以比自然渗透压力更大的压力，使渗透向相反方向进行，把原水中的水分子压到膜的另一边，变成洁净的水，从而达到出去水中盐分的目的，这就是反渗透除盐原理。

反渗透膜采用*的芳香族聚酰胺螺旋卷式复合膜，单支膜脱盐率≥99%，反渗透装置由复合膜元件、高压泵、玻璃钢压力容器、化学清洗装置、支架和仪表控制柜组成。配备就地控制盘，盘上安装各种就地仪表和控制按钮。反渗透脱盐装置采用PLC 控制，全自动运行。配备流量计、压力表、电导率仪等。

3、PH调节系统

由于二氧化碳无法被RO膜脱除，它会存在于反渗透产水中，形成碳酸引起电导率的上升，通过将一级RO产水加碱调节PH到碱性（8.2 ） 左右，可将二氧化碳转化成碳酸氢根离子，从而被二级RO膜脱除，确保二级RO产水符合要求。

pH 调节系统采用全自动方式控制，配备计量泵自动向管道中投加稀释后的 NaOH 溶液，计量精确，整体设计轻巧，准确的速度控制，不受热源及电磁干挠，通过PH在线监测仪表的实时监测，自动添加药剂，保证二级 RO 产水水质稳定。

4、EDI电除盐系统

EDI 设备连续电除盐（EDI，Electro deionization），是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的，因此不需要使用酸和碱对之再生。这种新技术可以替代传统的离子交换（DI）装置，生产出电阻率≥15MΩ.CM 的超纯水。离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近，可以选择性地透过离子，其中阴离子交换膜只允许阴离子透过，不允许阳离子透过；而阳离子交换膜只允许阳离子透过，不允许阴离子透过。在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成了一个 EDI 单元。阴阳离子交换膜之间由混合离子交换树脂占据的空间被称为淡水室。将一定数量的 EDI 单元罗列在一起，使阴 离子交换膜和阳离子交换膜交替排列，在离子交换膜之间添加特殊的离子交换树脂，其形成的空间被称为浓水室。在给定的直流电压的推动下，在淡水室中，离子交换树脂中的阴阳离子分别向正、负极迁移，并透过阴阳离子交换膜进入浓水室，同时给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由于离子电迁移而留下的空位。事实上离子的迁移和吸附是同时并连续发生的。通过这样的过程，给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除盐水。带负电荷的阴离子（例如 OH-、Cl-）被正极（+）吸引而通过阴离子交换膜，进入到邻近的浓水室。此后这些离子在继续向正极迁移中遇到邻近的阳离子交换膜，而阳离子交换膜不允许阴离子通过，这些离子即被阻隔在浓水中。淡水流中的阳离子（例如 Na+ 、H+）以类似的方式被阻隔在浓水室。在浓水室，透过阴阳膜的离子维持电中性。EDI 组件电流量和离子迁移量成正比。电流量由两部分组成，一部分源于被除去离子的迁移，另一部分源于水本身电离产生的H+和OH-离子的迁移。在 EDI 组件中存在较高的电压梯度，在其作用下，水会电解产生大量的H+和 OH-。这些就地产生的 H+和 OH-对离子交换树脂有连续再生的作用。EDI 组件中的离子交换树脂可以分为两部分，一部分称作工作树脂，另一部分称作抛光树脂，二者的界限称为工作前沿。工作树脂承担着除去大部分离子的任务，而抛光树脂则承担着去除弱电解质等较难清除离子的任务。 

EDI的特点

1、无须用酸碱再生、无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施、使用安全可靠,避免工人接触酸碱

2、节省了再生用水及再生污水处理设施

3、降低了运行及维护成本

4、占地面积小、安装简单、产水率高(可达90-95%)

5、连续运行、产品水水质稳定、不会因再生而停机

5、抛光混床系统

抛光混床一般情况用在超纯水处理系统末端，是树脂离子交换的原理。容器内部装填有免再生抛光精混核子级离子交换树脂，离子型态都是H、OH型，作为终端除盐设备，可将前级给水的电阻率提升到用户的需求值，以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。
    抛光混床离子交换对入水有特定的要求，其入水必须是阳、阴、混床离子交换系统的产水，或EDI连续电除盐系统的产水。只有满足其入水要求的给水条件，抛光混床离子交换才能够长期稳定运行。

6、UV杀菌器/TOC去除仪

UV杀菌器/TOC去除仪是一种物理杀菌法.细菌受紫外光照射后,紫外光谱能量为细菌核酸所吸收,其活力发生改变,菌体内的蛋白质和酶的合成发生障碍,因而导致微生物发生变异或死亡.根据试验,波长在200～250nm的紫外线具有杀菌能力,而波长为253.7nm的紫外线杀菌。而波长为185nm的紫外线具有很好的TOC脱除效果。设备耗材为灯管。需要定期进行更换，使用寿命≥9000小时。

三、国家电子级超纯水指标（GB/T11446.1-2013）：

四、部分经典客户案例：

五、全国联保、服务体系：

1、专业的安装售后团队，进行一对一服务，加强了后期安装售后服务的时效性，提升满意度。

2、建立安装售后服务机制，进行绩效考核，设立客服部门，投诉窗口，及时解决客户诉求。

3、安装调试过程全程指导、全程培训，理论培训，实际操机培训，一般故障排查培训。 

4、建立客户电子档案，每月进行电话回访，及时提供设备减低运转成本方法与建议。 

5、多途径售后反馈，提供全国售后维保服务，快速响应，快速处理，24小时服务。

6、郑重承诺：整机免费质保二年，技术服务。

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