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详细介绍
一、产品介绍
二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
二、使用方法
1.使用前将抛光织物用清水湿透，避免摩擦发热；
2、启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出；
3、喷洒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心沿半径方向喷出，3-5秒即可。新织物喷洒时间应相应延长，以使织物有更好的磨抛能力；
4、抛光过程中不断加入适量的清水即可。
三、产品特点
1、以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
2、广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。
3、高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品
四、产品参数
二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
二、使用方法
1.使用前将抛光织物用清水湿透，避免摩擦发热；
2、启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出；
3、喷洒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心沿半径方向喷出，3-5秒即可。新织物喷洒时间应相应延长，以使织物有更好的磨抛能力；
4、抛光过程中不断加入适量的清水即可。
三、产品特点
1、以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
2、广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。
3、高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品
四、产品参数
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