详细摘要： 大型工业气氛炉炉体结构为卧式,开门方式为侧开,加热元件为优质硅碳棒,具有智能化30段PID微电脑可编程控制及超温保护功能

详细摘要： 小型气氛炉设备使用氧化铝多晶纤维为晶体材料,双壳体设计,带有风冷系统,可快速升降温度。外壳整体密封,使用耐温硅胶,具有密封度更高,不易脱落变形等优点

详细摘要： 高温箱式气氛炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温

详细摘要： 高温推拉台车炉使用高温纤维炉膛,带轨道方便装卸物料,六面360度硅碳棒加热加热更均匀。带观察孔可观察烧结情况

详细摘要： 高温箱式气氛炉应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺。也用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷热处理等

详细摘要： 真空烧结炉(定制款)可在真空状态下对产品零件及材料进行烧结,也可以用作材料的热处理。结构型式为单室、卧式双层冷壁结构、惰性气体,带风冷及水冷降温

详细摘要： 真空烧结炉是卧式、单室结构,其炉体、炉门采用双层水冷,前开门结构。由炉体、加热室、真空系统、水冷系统、电控及供电系统组成

详细摘要： 高温真空烧结炉主要应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺。也用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷产品

详细摘要： 隔热屏真空钎焊炉炉膛采用耐温不锈钢,炉膛干净不会对材料产生污染,耐用,拉伸强度高,加热元件采用钼带为加热元件。双层壳体结构,炉体和炉门配有循环水冷系统

详细摘要： 多功能牙科炉(氧化锆/合金牙冠烧结一体炉)主要用于氧化锆牙冠和软质金属牙冠的烧结,能够将两种材料的烧结集合于一炉,有效的提升的客户的工作效率

详细摘要： 高温箱式马弗炉采用精密炉门设计,保证炉内高温不会泄露,有效保证加热效果,达到节能环保的目的；炉膛采用多晶陶瓷纤维,保温性能好,耐用,拉伸强度高

详细摘要： 实验室真空井式炉为卧式上开式结构,适用于高校、科研院所、工矿企业煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物热处理等试验

详细摘要： 高温升降炉是一种周期使用台车升降式高温电炉。设备采用硅钼棒为加热元件,使用温度从1500~1750℃,炉膛材料全部采用进口原料制作而成的耐高温氧化

详细摘要： 箱式热处理电阻炉采用精密炉门设计,保证炉内高温不会泄露,有效保证加热效果,达到节能环保的目的；炉膛采用多晶陶瓷纤维,保温性能好,耐用,拉伸强度高

详细摘要： 滑式真空炉CVD系统由滑动式开启式真空管式炉,混气系统,真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃,通过滑动炉体来实现快速的升降温

详细摘要： 实验室滑轨炉PECVD系统设备通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。

详细摘要： 开启式管式炉PECVD系统由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学气相...

详细摘要： 混合气体化学气相沉积CVD系统由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学...

详细摘要： CVD浮子混气系统适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用

详细摘要： 小型高温真空炉炉膛采用高纯氧化铝多晶纤维材料,保温性能好,以高温合金加热丝为加热元件。双层壳体结构和PID30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制