详细摘要： 纳米尺度3D光学干涉测量系统VS1800应用光干涉现象，对微细的表面形貌进行测量，可实现高性能薄膜、半导体、汽车零配件、显示器等行业所要求的高精度测量。而且还能...

详细摘要： IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式离子研磨仪器。借此，可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类...

详细摘要： ArBlade 5000是日立离子研磨仪的高性能机型。它实现了超高速截面研磨。高效率截面加工功能，使电镜截面观察时样品加工更简单。

详细摘要： 操作简单且直观。*:和TM4000Plus搭配应用实例*:探测器内置型(制造商: 德国Bruker nano GmbH)

详细摘要： 图标按操作流程顺序排列，操作简便。通过对应谱图可简单确认元素重叠状况。通过TruMap功能分离出谱峰重叠元素并准确显示(AZtecOne)。

详细摘要： 台式扫描电子显微镜(SEM)全新升级。我们以“更高画质、更易于使用、更易于观察"为理念，开发出TM4000系列。在此基础上，我们又推出功能更为多样的TM4000...

详细摘要： “的SEM更为紧凑"宽幅仅为45 cm的紧凑型的设计，仍具备4.0 nm的图像分辨率。全新开发的用户界面和电子光学系统让您深切体验其高性能。

详细摘要： 集优异性能、操作简便性、多样化功能于一身。日立高新推出的扫描电镜SU3800/SU3900兼具操作性和扩展性，结合众多的自动化功能，可高效发挥其高性能。SU39...

详细摘要： MirrorCLEM是一个可简便观察光学显微镜和扫描显微镜同一位置的CLEM*1用系统。*1:CLEM (Correlative light and elect...

详细摘要： 创新的“EM Wizard"界面更加直观，仅需要“点击"即可得到的图像。超前的电脑辅助技术将电镜的操作与控制提升到一个新水平。

详细摘要： SU7000不仅可以在低加速电压下获得高画质图像，而且还可以同时接收多种信号。此外，它还具备大视野观察、In-Situ观察等FE-SEM的众多性能。SU7000...

详细摘要： 专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的半导体器件，高分辨成像所设计。