产品简介 产品介绍仪器简介：该设备利用频率为2450MHz的微波激励稀薄气体放电，从而产生等离子体。可用于等离子体气相沉积、等离子体气相刻蚀等实验，用于制备金刚石膜或其它多种功能薄膜，可催化引发常规化学很难实现的反应技术参数：本设备由微波系统、真空系统、水冷系统等几部分组成电源：AC220V，50Hz微波功率：0-1500W连续线性可调（或0-1000W连续线性可调）微波频率：2450MHz±50MHz......
详细介绍 产品介绍 仪器简介： 该设备利用频率为2450MHz的微波激励稀薄气体放电，从而产生等离子体。可用于等离子体气相沉积、等离子体气相刻蚀等实验，用于制备金刚石膜或其它多种功能薄膜，可催化引发常规化学很难实现的反应 技术参数： 本设备由微波系统、真空系统、水冷系统等几部分组成 电源：AC220V，50Hz 微波功率：0-1500W连续线性可调（或0-1000W连续线性可调） 微波频率：2450MHz±50MHz 石英管反应室：φ50mm 放置样品的基片台可以方便地在放电腔内上下升降调节 放电腔两端有双层水冷套作降温保护
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