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详细介绍
一、应用领域
该设备为高真空多用途电阻蒸发镀膜机，四对电极可单独或同时蒸发不同的材料。设备为立式顶开盖结构，四对电极可单独或共蒸发，样品Φ300(max)，样品台公自转，公转转速2-20rpm可调;流量计控制气体流量，满足离子轰击压力要求。
二、性能参数
1. 镀膜室尺寸：Φ450×500mm钟罩
2. 镀膜有效尺寸：Φ300mm
3. 离子轰击功率：0.6kW
4. 恢复真空抽气时间(min)：<30
5. 蒸发源数目：4对，带电动挡板;
6. 蒸发源功率：2kW (可选电流、电压控制);
7. 偏压、膜厚仪、薄膜规、样品台加热可选;
8. 工艺气体：MFC 1路;
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