上海依肯机械设备有限公司

主营产品: 高箭切乳化机,高箭切分散机,高箭切混合机,搅拌机,混合机,乳化机,均质机,胶体磨,实验实分散机,真空乳化机。

您现在的位置: 上海依肯机械设备有限公司>> PP2000实验室胶体磨/高剪切胶体磨

暂无信息

公司信息

人:
曹小勇
址:
上海市松江区陈春公路700号
编:
201612
铺:
https://www.zyzhan.com/st17794/
给他留言
PP2000实验室胶体磨/高剪切胶体磨
实验室胶体磨/高剪切胶体磨
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号 PP2000
  • 品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 上海市

联系方式:曹小勇查看联系方式

更新时间:2018-05-15 15:47:44浏览次数:3027

联系我们时请说明是制药网上看到的信息,谢谢!

【简单介绍】
LP2000/4 (胶体磨块)
功率 2.2KW
转速 0-14000rpm
线速度 0-40m/s
尺寸(长X宽X高) (450X250X3500)mm
重量 30KG
操作条件 0-2.5bar
【详细说明】

实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

      胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

LP2000/4 (胶体磨块)
功率
2.2KW
转速
0-14000rpm
线速度
0-40m/s
尺寸(长X宽X高)
(450X250X3500)mm
重量
30KG
操作条件
0-2.5bar
CM2000/4实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

     公司另外一项*的创新,就是锥体磨CMO2000系列,它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。
研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。

PP 2000/4 (胶体磨块)
功率
2.2KW
转速
0-14000rpm
线速度
0-40m/s
尺寸(长X宽X高)
(450X250X900)mm
重量
45KG
操作条件
-1 -8bar
 


 

LP2000/4 (胶体磨块)
功率
2.2KW
转速
0-14000rpm
线速度
0-40m/s
尺寸(长X宽X高)
(450X250X3500)mm
重量
30KG
操作条件
0-2.5bar

 

该公司的其它相关产品查看所有产品 >>


产品对比 二维码

扫一扫访问手机商铺

对比框

在线留言