纳米氧化铝抛光剂高速研磨分散机，氧化铝研磨机，纳米抛光剂分散机

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陶瓷的许多性质明显地取决于气孔的数量、大小及分布。陶瓷中气孔分为开门气孔和闭口气孔。在坯料烧结前大都是开口气孔，烧结后开口气孔减少、消失或转变为闭口气孔。开口气孔使陶瓷的气密性下降、化学腐蚀性增加。气孔使陶瓷材料的导热率下降、介电损耗增大、抗电击穿强度降低。气孔还可以使光线散射而降低陶瓷的透明度。气孔又是应力集中的地方，在受到外界载荷作用时可能直接成为裂纹，使陶瓷材料的强度性能明显下降。在氢气氛下烧结时，由于氢原子半径很小，易于扩散并有利于闭口气孔的消除。在氧化铝中添加0．25 的氧化镁，于氢气氛下烧结可得到近于理论密度的烧结体。
  
氧化铝陶瓷的微观结构决定了它必将具有一系列的优点，比如：
1、氧化铝陶瓷材料具有优良的绝缘性，高频损耗小，高频绝缘性好的特点；氧化铝陶瓷不燃、不锈，坚固不易损坏，有着其它有机材料和金属材料不可比拟的优良性质。
2、氧化铝陶瓷耐磨性，其硬度与刚玉相同，达到莫氏硬度九级，耐磨性与超硬合金相匹敌。
3、氧化铝陶瓷的耐热性，具有热膨胀系数小，机械强度大，热传导率好等特点。
4、氧化铝陶瓷具有耐化学腐蚀性和熔融金属性等特点。

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锂电池陶瓷隔膜浆料的隔膜效果，一般取决于隔膜浆料的粒径，粒径越小隔膜效果越好。锂电池陶瓷隔膜浆料一般为氧化铝或者纳米级二氧化硅，分散到水中或者溶剂当中，难以分散，容易团聚。传统高速分散机或者砂磨机很难解决这种问题，而上海依肯研磨式分散机很好的解决了这一难题。

研磨式分散机是由高剪切胶体磨和高剪切分散机结合而成，先研磨后分散机，很好的解决了锂电池陶瓷隔膜研磨分散的问题。
               
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

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