隔膜浆陶瓷研磨分散机

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 隔膜浆陶瓷研磨分散机 

   陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子，二组陶瓷定子组成，在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转，使陶瓷转子甩出，紧贴陶瓷定子，产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中，高效、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中，通常物料中的各个相是互不相溶的。。使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用，使物料经过研磨后细度大大提高，再通过适量的添加剂共同作用，使产品快速、均匀、分散、乳化，研磨，避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点，效能比原来有胶体磨提高3倍以上，特别是对金属污染要求特别高的企业，如电子和电池行业，可以达到更高品质产品。
 
隔膜对氧化铝的性能要求：
1.粒径均匀性，能很好的粘接到隔膜上，又不会堵塞隔膜孔径。
2.氧化铝纯度高，不能引入杂质，影响电池内部环境。
3.氧化铝晶型结构的要求，保证氧化铝对电解液的相容性及浸润性。
涂覆高纯氧化铝（VK-L30G）隔膜的优点：
1.耐高温性：
氧化铝涂层具有优异的耐高温性，在180摄氏度以上还能保持隔膜形态。
2.高安全性：
氧化铝涂层可中和电解液中游离的HF，提升电池耐酸性，安全性提高。
3.高倍率性能：
纳米氧化铝在锂电池中可形成固溶体，提高倍率性和循环性能
4.良好浸润性：
纳米氧化铝粉末具有良好的吸液及保液能力。
5.*的自关断特性：
保持了聚烯烃隔膜的闭孔特性，避免热失控引起安全隐患。
6.低自放电率：
氧化铝涂层增加微孔曲折度，自放电低于普通隔膜。
7.循环寿命长：
降低了循环过程中的机械微短路，有效提升循环寿命。
 
隔膜分散设备
 
的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 
 
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
 
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
 
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
 
 
CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
 
型号    流量
L/H    转速
rpm    线速度
m/s    功率
kw    入/出口连接
DN
CMD2000/4    300    9000    23    2.2    DN25/DN15
CMD2000/5    1000    6000    23    7.5    DN40/DN32
CMD2000/10    2000    4200    23    22    DN80/DN65
CMD2000/20    5000    2850    23    37    DN80/DN65
CMD2000/30    8000    1420    23    55    DN150/DN125
CMD2000/50    15000    1100    23    110    DN200/DN150