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脱模剂乳化机,脱模剂研磨分散机

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  • 型号 CMSD2000
  • 品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 上海

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更新时间:2017-08-14 09:22:53浏览次数:766

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产品简介

脱模剂乳化机,脱模剂研磨分散机,脱模剂研磨分散机,脱模剂乳化机,脱模剂分散机,研磨分散机,高剪切乳化机,乳化机设备厂家

详细介绍

脱模剂乳化机,脱模剂研磨分散机,脱模剂研磨分散机,脱模剂乳化机,脱模剂分散机,研磨分散机,高剪切乳化机,乳化机设备厂家

 【脱模剂的简介】
 
    脱模剂是一种介于模具和成品之间的功能性物质。脱模剂有耐化学性,在与不同树脂的化学成份(特别是苯乙烯和胺类)接触时不被溶解。脱模剂还具有耐热及应力性能,不易分解或磨损;脱模剂粘合到模具上而不转移到被加工的制件上,不妨碍喷漆或其他二次加工操作。由于注塑、挤出、压延、模压、层压等工艺的迅速发展,脱模剂的用量也大幅度地提高。

 【脱模剂的成分】

   以水基型脱模剂为例,脱模剂的基本组分:石蜡5~20份,硬脂酸5~8份,植物油5~10份,助乳化剂5~8份,氢氧化钾计算量,其他辅料适量,尼泊金乙酯适量,去离子水至100份。要想生产出高品质的脱模剂产品,zui重要的是要乳化效果要好,要将物料充分细化,然后形成均匀稳定的乳液,上海IKN研磨分散机可以先将物料充分细化,然后进行均质乳化。根据客户反映脱模剂研磨的越细物料越稀,在依肯现场客户实验,研磨后的状态比研磨前的状态更加细腻、产品更稀。

                      
脱模剂乳化机,脱模剂研磨分散机的简介】

CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)



【CMD2000系列的结构】

研磨式分散机是由锥体磨+分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
                     

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。


【CMD2000系列研磨分散机的特点】

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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