BTF-1200C-R-PECVD-等离子体增强回转炉BTF-1200C-R-PECVD-安徽贝意克设备技术有限公司

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安徽贝意克设备技术有限公司

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产品简介

1.该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；
2.可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。
3.该款设备是全自动Plasma增强CVD系统（PECVD）,系统可以实现连续滑动温区，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，

详细介绍

型号	BTF-1200C-R-PECVD
显示模式	7"液晶触屏显示
zui高温度	1100℃
升温速率	10℃/S
控温精度	±1℃
加热元件	电阻丝
热电偶	K型
控温方式	7"液晶触屏与工控仪表双重控温，模糊PID控制和自整定调节，人工智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能。
炉管尺寸	Φ604202+Φ100*360mm
炉管转速	3~13r/min
倾斜角度	0~35°
加热功率	3KW
射频功率输出范围	0~500W
供气系统	标配三路质量流量计（50/100/200sccm）
供电电源	220V50Hz
通讯接口	USB
外形尺寸	1600mm650mm1400mm
设备净重	约220KG