全自动氩气净化设备：高纯氩气主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过本装置对氩气的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体质量是有保证的。氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。广泛应用于在金属保护行业、电子、电光源、科研、气体、分析、医学等领域以及光谱仪、气相色谱仪、科学仪器等等已知或未知的宽广领域

全自动氩气净化设备装置特点：

1. 催化剂采用了环保的催化材料。具有吸附深度高，吸收杂质气量大的特点，经催化吸附干燥过滤后使其zui终纯度达99.9999%以上。100级的气体出口过滤器使其zui终纯气颗粒小于0.1μ，确保气体满足高纯气要求，原位再生功能保证了气体的品质如一，达到了环保节能的zui终目的

2. 本装置所有阀门，容器，管路全系不锈钢制作，均采用国内外专业制造企业的名优产品，直接保证了设备工作过程中的高真空无渗透及*运行安全可靠性。

3. 精致的控制仪表，电路电器选自跨国公司，如西门子，施耐德等。

4. 设备所有连接接头均选自企业*的VCR接头,杜绝渗漏，安全快捷。

5. 人性化的外观设计,使设备外形精巧更美观，操作更方便

全自动氩气净化设备设备工作原理

设备工作设有两组工作组，填装的净化材料属于可再生重复利用材料。原料液氩经汽化器汽化后由设备工作进口进入设备一组工作组，经脱氧剂、分子筛及精密过滤器后送出至工作点使用。一组工作组负荷饱和后，切换到另一组工作组工作，保证为使用点连续的提供高纯氩气。同时一组工作组开始再生加热加氢反吹洗（本系统加氢是为了还原脱氧剂，加氢结束后设备自动吹洗并直接放空），为等待下一次切换使用做好准备。装置工作为常温工作，脱氧程度深、碳水含量低，均可达到并高于GB高纯氩气标准。

主要技术条件

1、 处理气量 ≥2-320Nm3/h

2、工作压力 ＜0.8Mpa

3、原料氩气纯度 ≥99.99%

4、纯化后 O2 ≤0.2ppm CO+CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm