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无锡冠亚恒温制冷技术有限公司>>制冷加热控温系统>>制冷加热控温系统>>SUNDI-225反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元

反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元

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参考价 156744
订货量 1
具体成交价以合同协议为准
  • 型号 SUNDI-225
  • 品牌 冠亚制冷
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 无锡市

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更新时间:2024-03-21 10:15:20浏览次数:110

联系我们时请说明是制药网上看到的信息,谢谢!

产品简介

产地 国产 产品大小 小型
产品新旧 全新 控温方式 水冷式
自动化程度 其他    
【无锡冠亚】反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

详细介绍


无锡冠亚制冷加热控温系统的典型应用:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、

双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、

微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、

蒸馏系统控温、

材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、

半导体设备冷却加热、

真空室制冷加热恒温控制。



型号SUNDI-320SUNDI-420WSUNDI-430W
介质温度范围-30℃~180℃-40℃~180℃-40℃~200℃
控制系统前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器
温控模式选择物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择
温差控制设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定
程序编辑可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤
通信协议MODBUS RTU 协议  RS 485接口
物料温度反馈PT100
温度反馈设备进口温度、设备出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度
导热介质温控精度±0.5℃
反应物料温控精度±1℃
加热功率2KW2KW3KW
制冷能力180℃1.5kW1.8kW3kW
50℃1.5kW1.8kW3kW
0℃1.5kW1.8kW3kW
-5℃0.9kW1.2kW2kW
-20℃0.6kW1kW1.5kW
-35℃
0.3kW0.5kW
循环泵流量、压力max10L/min

0.8bar

max10L/min

0.8bar

max20L/min

2bar

压缩机海立/泰康/思科普
膨胀阀丹佛斯/艾默生热力膨胀阀
蒸发器丹佛斯/高力板式换热器
操作面板7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录
安全防护具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。
密闭循环系统整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。
制冷剂R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G1/2G1/2
水冷型 W

温度 20度


450L/H

1.5bar~4bar

G3/8

550L/H

1.5bar~4bar

G3/8

外型尺寸 cm45*65*8745*65*8745*65*120
正压防爆尺寸
70*75*121.570*75*121.5
标配重量55kg55kg85kg
电源AC 220V 50HZ 2.9kW(max)AC 220V 50HZ 3.3kW(max)AC380V 50HZ  4.5kW(max)
外壳材质SUS 304SUS 304SUS 304
选配
正压防爆  后缀加PEX
选配可选配以太网接口,配置电脑操作软件
选配选配外置触摸屏控制器,通信线距离10M
选配电源100V 50HZ单相,110V 60HZ 单相,230V 60HZ 单相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相







反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元

反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元

  

  半导体制造是一个高度复杂的工艺过程,其中恒温器的使用对于确保生产过程的稳定性和产品质量比较重要。半导体专用工艺过程恒温器能够准确控制生产环境中的温度,为半导体材料的生长、掺杂、刻蚀等工艺步骤提供条件。以下是半导体专用工艺过程恒温器操作中的几个关键注意点:

  1、准确的温度控制:半导体生产过程中,冠亚制冷半导体专用工艺过程恒温器能够准确控制并维持设定的温度值,通常需要在±0.1℃甚至更小的范围内波动。因此,半导体专用工艺过程恒温器的校准和维护是日常操作中的环节。

  2、快速的响应速度:半导体工艺过程中,温度的快速变化可能导致材料结构的突变,影响产品质量。半导体专用工艺过程恒温器需要具备快速响应的能力,能够在短时间内调整温度至设定值,以应对生产过程中的情况。

  3、良好的热均匀性:半导体专用工艺过程恒温器内的热分布须均匀,以避免产品因温度梯度导致的性能不一致。在设计恒温器时,需要充分考虑热传导、对流和辐射等因素,确保工作区域内的温度分布稳定且均匀。

  4、可靠的措施:半导体生产设备通常运行在高精度和高价值的状态下,半导体专用工艺过程恒温器的安全性能比较重要。这包括过热保护、电源保护、故障报警等功能,以确保在设备出现问题时能够及时切断电源并发出警报,防止设备损坏和生产中断。

  5、智能的控制系统:半导体专用工艺过程恒温器通常配备智能控制系统,能够实现远程监控、数据记录和分析等功能。操作人员可以通过控制系统实时了解恒温器的运行状态,并根据生产需要调整参数,提高生产效率。

  6、定期的维护保养:半导体专用工艺过程恒温器作为长期运行的设备,需要定期进行维护保养,包括清洁、检查传感器、更换老化的部件等。这不仅可以确保设备的稳定运行,还可以延长设备的使用寿命。

  7、严格的操作规程:冠亚制冷半导体专用工艺过程恒温器操作人员需要接受专业培训,熟悉半导体专用工艺过程恒温器的操作规程和注意事项。在操作过程中,应严格按照规程执行,避免因误操作导致设备故障或产品质量问题。

综上所述,半导体专用工艺过程恒温器的操作涉及多个方面的注意事项,需要操作人员具备专业知识和严谨的工作态度,以确保生产过程的稳定性和产品质量的可靠性。



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