半导体生产用纯水设备应用范围说明

　　半导体生产用纯水设备

　　超纯水主要应用于溶剂用水、化学分析、化工材料、产品清洗、物质的分离、浓缩、提纯等场合，对于水质要求相对严格，我们公司可根据客户对水质的具体要求，采用反渗透，EDI等超纯水生产工艺的不同组合，生产出既经济实用，又能满足客户要求的超纯水设备。

　　半导体生产用纯水设备优势：

　　1、降低能耗，减少化学药品的使用量，综合成本低。

　　2、各个自动运行程序的工艺参数、控制参数可以在线设定。

　　3、自动报警系统可分析各类故障并发出警报，显示故障点和故障状态。

　　4、整体设备运行稳定、自动化程度高、无需人工操作。

　　5、安装杀菌消毒系统，确保出水水质不受二次污染。

　　半导体生产用纯水设备应用范围

　　1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

　　2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

　　3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

　　4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

　　莱特莱德公司服务流程简介

　　客户前期询问设备，我们会报合理的价格，然后双方达成协议，由设计部门设计产品，可定制。

　　产品设计完成以后，生产部门尽快生产。我们安排物流公司进行发货。

　　技术人员上门现场安装，并培训设备使用人员基本操作知识。

　　随时跟踪客户产品使用情况和，提高解决问题效率和设备使用寿命。

　　以上是超纯水设备的简单介绍。莱特莱德公司结合各地市场及不同水质的要求，为客户提供优化的系统设计方案。