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详细介绍
广州誉立电子科技代理的科研型电流体喷印设备，是源自华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室的高分辨率电流体喷印原创技术，获2017年湖北省自然科学一等奖和2014年日内瓦发明展金奖；配置高速视觉系统、高精度多自由度运动平台、精密供墨系统等功能模块，适用1-10000cPs粘度的有机/无机墨水，集成按需点喷、纺丝直写、雾化制膜三种打印模式，支持矢量图、位图等图形输入，高精度制备微纳级点/点阵、线/曲线、薄膜结构等复杂微纳图案。
产品介绍：
HEIJ系列科研型电流体喷印设备，源自华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室的高分辨率电流体喷印原创技术，获2017年湖北省自然科学一等奖和2014年日内瓦发明展金奖；配置高速视觉系统、高精度多自由度运动平台、精密供墨系统等功能模块，适用1-10000cPs粘度的有机/无机墨水，集成按需点喷、纺丝直写、雾化制膜三种打印模式，支持矢量图、位图等图形输入，高精度制备微纳级点/点阵、线/曲线、薄膜结构等复杂微纳图案。
规格指标：
型号说明 | P型：专业级微纳图案化平台 |
设备特点 | 一体机、专业级平台、可定制化 |
供墨系统 | 精密气压+流量泵 双供墨 |
高压电源 | ±5000V@多种波形 |
打印频率 | ~10000Hz |
打印基台 | 210×210mm2，真空吸附、加热~100℃ |
打印速度 | 3DOF@500mm/s |
定位/重复精度 | ±3μm / ±1μm |
视觉系统 | 高倍观测相机+精密定位相机 |
图形格式 | 支持矢量图、位图，内置基本图元（HEIJ-P支持曲面打印） |
工艺指标 | 点喷最小直径 <1μm、打线最小线宽 <1μm、制膜最小厚度 ~50nm |
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