强激光用电介质膜反射镜

 强激光用电介质膜反射镜

   强激光用电介质膜反射镜是日本西格玛光机中国一级代理商广州誉立电子科技有限公司备有基波（1030nm） ，2次谐波（515nm），3次谐波（343nm），4次谐波（257nm）等多种波长使用的反射镜。

反射率高。经过多次反射后的光量衰减小。

使用吸收小的电介质膜，适合承受大功率激光的连续照射。

信息：

• 承接定制产品目录上没有的尺寸或波长特性的反射镜。欢迎利用客户问询单咨询。

• 可申请定制在低散乱基板上镀强激光用多层电介质膜。

• 备有保证镀膜后面精度的反射镜（HTFM）。

   

注意：

• 请务必确认入射激光光束的能量密度是否低于激光损伤阈值。

• 透镜或凹面反射镜汇聚过的光束，更要注意确认其能量密度是否超过元件固有的激光损伤阈值，否则容易发生激光损伤。

• 存在一定的透过光（透过率一般小于1%）。但，光束功率很大时，请务必在反射镜后面，也采取必要的安全防护措施。

• 入射光束的偏振状态影响反射率。与S偏光相比，P偏光入射时的反射率略低，适用波长范围也略窄。

• 样本上的技术指标中的反射率是P偏光和S偏光的反射率的算术平均值。

• 用于设计波长之外的波长区域时，反射率会降低。

   

通用指标： 

技术指标：  

技术数据/外形图   

功能说明图：   

反射率波长特性（参考数据）