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KRi 射频离子源 RFICP 220伯东代理

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更新时间：2021-12-28 14:24:48浏览次数：129次

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产品简介

产地	进口	产品新旧	全新

标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

详细介绍

KRi 射频离子源 RFICP 220
上海伯东代理美国进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

型号	RFICP 220
Discharge 阳极	RF 射频
离子束流	>800 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	20 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	30 cm
直径	41 cm
中和器	LFN 2000