详细摘要: 上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 专为半导体生产而设计, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2022-03-09 在线留言干燥设备 粉碎设备 混合设备 反应设备 过滤分离设备 过滤材料 灭菌设备 萃取设备 贮存设备 传热设备 锅炉 塔设备 结晶设备 其它制药设备
伯东企业(上海)有限公司
详细摘要: 上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 专为半导体生产而设计, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2022-03-09 在线留言详细摘要: 上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 专为半导体生产而设计, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2022-03-09 在线留言详细摘要: 上海伯东 Europlasma 等离子机可实现 PS 等材质的细胞培养耗材表面水接触角 WCA <10° 的亲水特性. 醇标板经表面改性处理后拥有带正...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2022-01-20 在线留言详细摘要: 一般使用宽束的工业用KRI离子源,都会使用中和器来达到使用激发电子中和离子的目的。常用来做中和器的像是热灯丝,电浆桥,或是中空阴极。
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列大,离子能量强的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC ...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国 进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国 进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内,...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: KRI Ion Source Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源提供中空阴极 e-Mission Hollow Cathodes 结构紧凑, 重量轻, 可以安装在离子源或真空系统的侧面, 相...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源提供多个类型的低能量高密度的电子源, 从简单的热电子灯丝模式到中空阴极模式,典型应用在等离子和离子工艺中的阴极和阳极中和器, ...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国 进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀.
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国 进口 KRI线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现佳的均...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上 高效, 提供 高离子束流的离...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH 2000 是一款更强大的版本, 带有水冷方式, 他具备 eH 1000 所有的性能, 低成本设计提供高离子电流,...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 250 mA.
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下 RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以达到 400 m...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和...
产品型号:所在地:上海市更新时间:2021-12-28 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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