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详细介绍
预处理系统 PLC控制盘
（1）预处理系统设计与选用的主要依据
l 采用分析仪的设备或流程系统的工艺过程及其特点，分析仪在该工艺流程中的作用
l 取样点的位置、环境状况以及取样点周围样品的分布状态及物理化学参数
l 被测组分的平均含量，以及可能出现的与含量，工艺过程中的变化频率
l 非测量组分的平均含量及其在工艺过程中的变化范围，考虑消除措施及抗干扰措施
l 样品中的水含量，对大多数气体分析仪具有干扰作用，应采取相应措施加以限制或消除
l 样品压力或压差及其波动范围，多数分析仪对样品压力及流量比较敏感，需要一定的稳压稳流措施
l 样品温度变化范围及其平均值，以便选择合理的取样探头结构及核算其使用寿命，同时，考虑分析仪是否采用温度补偿措施
l 样品中机械杂质及其含量；灰尘含量是设计取样探头及过滤器的重要依据，根据灰尘平均含量，核算过滤器更换或维护的周期；灰尘颗粒尺寸变化较大时，采用不同的多种过滤方式
l 样品中腐蚀性物质的平均含量及可能的含量，与选择取样系统的材料、分析仪类型、过滤方式等有关
l 取样点样品含量发生变化到分析仪稳定所允许的时间（响应时间），需要考虑响应时间是否能满足工艺生产的要求，否则，要从仪器选型、取样点、分析仪安装位置考虑尽量使距离缩短
l 分析仪及取样系统安装地点的安全防爆等级，以及是否需要PLC全自动控制采样，也是取样系统选型的重要依据；
（2）预处理系统对样品进行处理后的要求
目的在于改善样品的物理、化学特性，适应分析仪的正常工作，要求如下：
l 样品中灰尘和机械杂质一般不超过0.01g/m3
l 样品中水蒸汽必须排除，一般含水量不超过0.5g/m3
l 样品中腐蚀性杂质，如硫化氢、氨等，一般不超过0.01g/m3
l 样品温度一般不超过40℃，是室温
l 进入分析仪的压力尽量接近大气压，以简化分析仪的设计要求
l 控制样品流量，大多数分析仪所需流量为0.2～1L/min，且要求流量保持稳定
l 消除或减少样品中对分析仪有干扰作用的组分，但应避免改变待测组分的含量
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