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W2200C/CT/2200 TURBOVAC MAG digital磁悬浮复合分子泵

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更新时间：2024-09-13 07:33:02浏览次数：214次

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产品简介

TURBOVAC MAG W 830/1300 C W 1500 CTW 2000 C/CT W 2200 C W 2800/3200 (C/CT)典型应用- 半导体工业，诸如蚀刻、CVD、PVD和离子注入之类的所有主要半导体工艺- 进样室，转移室- 粒子加速器- 科研- 镀膜系统技术特点- 主动定位五轴磁悬浮轴承系统- 轴承系统的数字监控- 噪声和振动低- 任意方向安装- 的转子设计，实现高......

详细介绍

TURBOVAC MAG W 830/1300 C W 1500 CT

W 2000 C/CT W 2200 C W 2800/3200 (C/CT)

典型应用

- 半导体工业，诸如蚀刻、CVD、PVD和离子注入之类的所有主要半导体工艺

- 进样室，转移室

- 粒子加速器

- 科研

- 镀膜系统

技术特点

- 主动定位五轴磁悬浮轴承系统

- 轴承系统的数字监控

- 噪声和振动低

- 任意方向安装

- 的转子设计，实现高抽速和高前级耐压

- 智能电源控制系统

- CT版集成温度管理系统（TMS）

- C版耐腐蚀

客户得益

- 免维护

- 所有工艺气体都有高气载量

- 极限低，抽速高

- 前级耐压高

- 同类中重量较轻，尺寸较小

- 耐粉尘

- 温控达 90 °C (194 °F)，避免沉积物

（CT版）

- 高耐腐蚀性-CT版

- 气体吹扫系统

更多信息请联系莱宝：安博元科技 info

技术特点

- 主动定位五轴磁悬浮轴承系统

- 轴承系统的数字监控

- 噪声和振动低

- 任意方向安装

- 的转子设计，实现高抽速和高前级耐压

- 智能电源控制系统

- CT版集成温度管理系统（TMS）

- C版耐腐蚀

客户得益

- 免维护

- 所有工艺气体都有高气载量

- 极限低，抽速高

- 前级耐压高

- 同类中重量轻，尺寸小

- 耐粉尘

- 温控达 90 °C (194 °F)，避免沉积物

（CT版）

- 高耐腐蚀性-CT版

- 气体吹扫系统

更多信息请联系莱宝：安博元科技 info

典型应用

- 半导体工业，诸如蚀刻、CVD、PVD和离子注入之类的所有主要半导体工艺

- 进样室，转移室

- 粒子加速器

- 科研

- 镀膜系统

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技术参数		TURBOVAC MAG
		W 2200 C/CT				W 2200
进气口		DN	200 ISO-F	250 ISO-F			250 CF
PNEUROP的抽速氮气氩气氦气氢气		I x s-1I x s-1I x s-1I x s-1
额定转速		min-1	29 400	29 400			29 400
压缩比氮气			> 1 x 108	> 1 x 108			1 x 108
极限压强，根据 DIN 28 400		mbar (Torr)	< 10-8 (< 0 75 x 10-8)	< 10-8 (< 0 75 x 10-8)	< 1 x 10-10 (< 0 75 x 10-10)
前级耐压（对氮气）对流冷却时水冷却时		mbar (Torr)mbar (Torr)	– 2 (1 5)	– 2 (1 5)	0 1 (0 075) 1 (0 75)
推荐的前级泵抽速达100m3/h的旋片泵或干泵			TRIVAC D 65 BCS	TRIVAC D 65 BCS	TRIVAC D 65 BCS
启动时间达95%名义转度时	min		< 8	< 8	< 8
出气口外形尺寸	DN		40 ISO-KF	40 ISO-KF	40 ISO-KF
吹扫和破空口			1/4" VCR	1/4" VCR	DN 10/16
冷却水接口（管道外径）			1/2"	1/2"	Swagelok管1/4"
重量（近似）	kg (lbs)		48 (106)	48 (106)	60 (132)