「高纯水设备」高纯水设备的适用范围和工艺过程，目前半导体，电子行业是世界上对超纯水的要求用户。超大型水力制造技术的发展大大推动了半导体和电子工业的技术进步。与此同时，半导体和电子行业的快速发展，推动了超纯水生产技术的进步,反渗透(RO)+(EDI)电去离子工艺，生产用水符合电子工业用水(水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水的水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,12MΩ*cm,0.5MΩ*cm)。超纯水电子设备的适用范围，半导体，集成电路芯片和封装，液晶显示，高精度线路板，光电器件，各种电子器件，微电子工业，大型，超大型集成电路需要大量的纯水，高纯水，超纯水来清洗半成品，成品。芯片集成度越高，线宽越窄，水质要求越高。现将电子级水质检测技术划分为工业级18MΩ.cm,15MΩ.cm,10MΩ.cm,2MΩ.cm,0.5MΩ.cm等5个工业级，以区别不同水质。
「高纯水设备」高纯水设备的适用范围和工艺过程，电子业制备超纯水的过程大致可分为三个阶段：
采用反渗透水处理设备和离子交换设备相结合的方法制备电子工业用超纯水，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水水箱→超纯泵→后防腐过滤器→用水点。
利用反渗透设备和电除子(EDI)设备相结合的方法制备电子工业中的超纯水，这是一种的超纯水生产技术，同时也是一种环保、经济、发展潜力巨大的超纯水生产技术，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电除子(EDI)→超纯水泵→超纯水泵→超纯水过滤器→后置安全过滤器→用水点。
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