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电子厂超纯水设备

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更新时间:2020-12-23 16:10:20浏览次数:435次

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操作压力 10公斤 产地 国产
产品大小 中型 产品新旧 全新
产水量 10 结构类型 卧式
脱盐率 99% 用途 水过滤
自动化程度 半自动
电子厂超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎*去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备;是电子厂生产用超纯水制备*的装置。

电子厂超纯水设备

电子厂超纯水设备概述

设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎*去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备;是电子厂生产用超纯水制备*的装置。

电子行业高纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001质量体系标准的前提下,采用高品质的反渗透膜元件。压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水符合各类电子行业生产标准的超纯水。控制系统选用PLC程序控制,可实现自动起停、加药及冲洗,自动监测各种运行参数,并可实现运行参数的储存及打印广泛适用于: 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂光导纤维、光盘等。

目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。

连续电除盐(EDI,Electro deionization或CDI,continuous electrode ionization),是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子,同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下,分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的,因此不需要使用酸和碱对之再生。这一新技术可以替代传统的离子交换装置,生产出高达18M-CM的超纯水。又可以比较清晰地描述如下:EDI是利用阴、阳离子膜,采用对称堆放的形式,在阴、阳离子膜中间夹着阴、阳离子树脂,分别在直流电压的作用下,进行阴、阳离子交换。而同时在电压梯度的作用下,水会发生电解产生大量H+和OH-,这些H+和OH-对离子膜中间的阴、阳离子不断地进行了再生。由于EDI不停进行交换——再生,使得纯水度越来越高,所以,轻而易举的产生了高纯度的超纯水。

液晶电子化工用EDI高纯水设备通常由多介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人值守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使该设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

关键设备及材料均采用主流可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

设备优点

1、 产水水质符合标准,稳定

2、 不间断制水,再生时不需要停机处理。

3、 处理过程中不需要化学的药剂再生。

4、 堆叠式设计,占地面积小。

5、 操作简单,安全。

6、 运行费用低,维修费用低。

7、 无酸碱储备及运输费用。

8、 全自动运行,无需专人看管。

 

 

 

 

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