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 天津半导体纯水设备生产厂家

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天津半导体纯水设备简介：

半导体纯水设备

5、工艺说明

5.1  预处理部分目的：为反渗透装置提供合格的进水。

5.1.1原水预处理的目的和组成

A.反渗透系统进水要求：

（1）污染指数：          SDI≤4；

（2）余氯：              <0.1 ppm

（3）浊度                <1NTU

（4）供水Fe3+             ≤0.01ppm。

（5）供水水温适宜范围    10～30℃。

（6）碳酸钙饱和指数      LSI：<0

 预处理系统就是通过絮凝、过滤、吸附等方法使反渗透进水达到以上要求，以实现以下目的：

（1）防止反渗透装置膜面结垢（包括CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、铁铝氧化 物等）；

（2）防止胶体物质及悬浮固体微粒对反渗透的污堵；

（3）防止有机物质的对反渗透的污堵和降解；

（4）防止微生物对反渗透的污堵；

（5）防止氧化性物质对反渗透膜的氧化破坏；

C.预处理系统的组成：包括石英砂滤器、活性炭滤器。

 5.1.2石英砂滤器

多介质过滤器中的滤料包括多种规格的石英砂，用于除去原水中的悬浮物及及脱稳后的胶体,以使出水的污染指数SDI<4达到RO进水要求。